美光预告超400层G11 NAND闪存
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美光预告超400层G11 NAND闪存
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AI 综述
美光预告了下一代 G11 NAND 闪存:堆叠层数超过 400 层,采用晶圆对晶圆键合技术,按面积计算的存储密度约为现有 276 层 G9 NAND 的 2 倍。美光称该产品计划于 2027 年下半年产能爬坡,并似乎跳过了 G10 世代。 目前披露的是产品预告和量产时间表,尚未给出具体容量、性能或客户信息。
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最新进展10月22日 10:05
美光预告 G11 NAND:超 400 层堆叠、双倍密度,2027H2 产能爬坡报道时间线
沿着报道,了解事件的不同侧面。
10月22日
- IT之家美光预告 G11 NAND:超 400 层堆叠、双倍密度,2027H2 产能爬坡
美光预告 G11 NAND 闪存,堆叠超过 400 层并采用晶圆对晶圆键合技术,按面积计算的存储密度约为现有 276 层 G9 NAND 的 2 倍,计划 2027H2 产能爬坡。
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